站在高永明右侧的工程师露出抹不解，他叫唐鑫宇，是龙芯国际光刻团队的副首席。
他好像听说过，但记不起来在哪听过了。
“没错。”
林天点了点头，语气坚定道：“DUV光刻机是可以制造14纳米芯片的，它的极限远不止于此，理想状态是能到7纳米。”
高永明：“！！！”
唐鑫宇：“！！！”
曲程：“！！！”
DUV光刻机极限居然是7纳米？
你在开什么玩笑？
陈星也被惊到了，如果真能使用一台20纳米制程的DUV光刻机造出7纳米芯片，那西方会不会对此大跌眼镜？
别看明面上，米国还没下场封锁技术，但背地里，其实早就限购光刻机了。
它的做法很简单，可以卖你龙国光刻机，但不能卖给你最先进的光刻机。
例如两年前，28纳米还属于先进水平的时候，28纳米制程的DUV光刻机就不能卖给龙国，谁敢卖，就是和米国作对。
荷兰敢吗？
显然是不敢的，它们也没有这个本事。
荷兰ASML公司说白了，它就是个光刻机组装工厂，没有米国的光源技术，它啥也不是。
而到了今天，西方攻克了14纳米芯片后，已经把目光看向了7纳米芯片，自然而然的，20纳米DUV光刻机就被放开了。
米国目的很明显，允许你用，但不允许你超越。
越是害怕，越会提防，因为龙国才脱离战争不到三十年，就发展到了世界第二大经济体，再给发展三十年会怎么样？
沉睡的雄狮，东方的巨龙，它们哪敢不防？
陈星虽然是商人，但同时也是位龙国商人，如果能在自家搞出14纳米芯片，那他还是愿意多支付一些流片费用的。
毕竟曲程也说了，之前龙兴科技公司申请的国家芯片扶持也走完审核流程，资金和土地都进入了最终的批准环节。
“说说使用这个多重曝光技术，流片要多少钱？”
陈星表明自己态度。
林天得到确切的答复后，述说自己的想法道：
“光刻多重曝光技术，说通俗直白一点就是，原本只需一块的芯片掩膜版就可以搞定的生产，现在我们因为光刻机精度和分辨率的限制，将它拆分多块，每一块都有相对应的电路图案。”
“比如我们要做14纳米芯片，可以把设计的芯片电路图案拆开，就得到了两份28纳米间隔的电路图案，分两次把它们刻在硅片上，就会形成完整的14纳米芯片电路图案，就类似于我们龙国的太极图，一阴一阳互补的意思。”
“因为是两块芯片掩膜版，所以要给双倍的流片费用。”
陈星大致听明白了，这個多重曝光技术就相于要印刷一个AB字母的组合图案。
第一步先把AB拆开，得到A与B两个图案，然后将它们分别制作光掩膜版，紧接着用第一块A字母的掩膜版在硅片上刻了A，再用B字母的掩膜版在硅片上刻上B，最终得到所需要的AB组合图案。
八个字概括就是，精度不够，工序来凑。
“要花两倍的流片费用，高总，14纳米的……”
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